利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术，在工件表面制取精密、微细和复杂薄层图形的化学加工方法，就称为光刻腐蚀，简称光刻。光刻原理虽然在19世纪就为人们所知，但长期以来由于缺乏优良的光致抗蚀剂而未得到应用。直到20世纪50年代，美国制成高分辨率和优异抗蚀性能的柯达光致抗蚀剂(KPR)之后，光刻技术才迅速发展起来，并开始用在半导体工业方面。光刻是制造半导体器件和大规模集成电路的关键工序之一，并已用于刻划光栅、线纹尺和度盘等精密线纹。 光刻的基本原理：利用光致抗蚀剂(或称光刻胶〉感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工的表面上。这里要特别说明掩模的概念。它是一块印有所需要加工图形的透光玻璃片。当光线...